手動平行光曝光機  |產品介紹 Products|曝光系列 Exposure Series

手動平行光曝光機


Manual Collimated Exposure Units
TI-5000MC

代碼 TI-5000MC





適用 Applications

PCB內外層曝光製程
The exposure process for PCB inner/outer layer


特徵 Features

  • 產能可達每小時90~120片。
  • 5kw短弧汞氙燈(5KW Mercury Metal Short Arc Lamp)。
  • 曝光控制: 自動感測光強,自動積量控制光能量。
  • 曝光方式為單燈雙面曝光,並使用採用橡膠氣密條確保真空 。
  • PLC連網,可將機台曝光參數傳給MES中控主機,進行參數以及生產監控。
  • 變頻框架傳動系統。


技術參數

Item/項目 Specification/技術規格
機台尺寸/重量
Dimensions/Weight
長(D)x寬(W)x高(H): 1260mm x 3150mm x 2100mm
重量(Weight):~1100kg
電源
Power
3相4線 (3P4W), 50/60HZ, 380V/220V, 14KVA,  40A
光源系統
Lamp System
  • 燈源(Lamp): 5kw短弧汞氙燈/ 5KW Mercury Metal Short Arc Lamp
  • 檯面均勻度(Uniformity): ≧85%
  • 光強度(Intensity): 13 mW/cm2
  • 線路解析度(Resolution): (Line/Space) 3/3㏕
  • 燈源冷卻(Lamp Cooing): 強制風冷(air cooling)
  • 光偏角(Declination Angle): ≦3°
曝光系統
Exposure System
  • 曝光面積(Exposure area): 560mm x 600mm
  • 檯面冷卻(Exposure Cooling): 冷氣強制風冷(Cooled air cooling)
  • 曝光檯面(Exposure Frame): 雙框(玻璃 – 麥拉)/ 2 sets of frame (Glass - Mylar)
基版尺寸
Suitable Panel Size
  • 板材厚度(Thickness): 0.1mm~3.2mm
  • 板彎板翹(Bow and twist): ≦1mm
  • 板厚誤差(Thickness tolerance): ≦3.2mil
外部供應
Utilities
  • 冷卻水需求(Cooling water): 2.5~3.0kg, 5~10℃, 60L/min,
  • 管徑: Ø1.5”
  • 氣壓源(Air supply): 5~8kg/cm2
環境要求
Clean room
  • 無塵室潔淨度(Clean room CLASS): ≦10000級
  • 溫度(room Temperature): 22℃±2℃,
  • 濕度(Humidity): 55%±5%RH



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手動平行光曝光機

Manual Collimated Exposure Units
TI-5000MC