CCD半自動平行光曝光機

CCD半自動平行光曝光機


CCD Aligning Semi-Automatic Collimated Exposure Units
TI-5055HC

代碼 TI-5055HC





適用 Applications

PCB內外層曝光製程
The exposure process for PCB inner/outer layer.


特徵 Features

  1. 產能可達每小時90~120片。
  2. UV光鏡面垂直反射系統,解析度高。
  3. 框架伺服傳動系統,定位精準。
  4. 機台曝光室自動濕度控制。
  5. 曝光控制: 自動感測光強,自動積量控制光能量
  6. 曝光方式為單燈雙面曝光,並使用充氣式氣密條達成真空氣密。
  7. 使用4組高辨識度CCD對位元,以板動而上/下底片不動的方式達成15μm的對位精度。


技術參數

Item/項目 Specification/技術規格
機台尺寸/重量
Dimensions/Weight
長(D)x寬(W)x高(H): 1300mm x 2800mm x  1750mm
重量(Weight):~1400kg
電源
Power
三相(3 phase), 380V, 50/60HZ, 150A
光源系統
Lamp System
  1. 燈源(Lamp): 5kw 短弧汞氙燈/ 5KW Mercury Metal Short Arc Lamp
  2. 檯面均勻度(Uniformity): ≧85%
  3. 光強度(Intensity): ≧15 mW/cm2
  4. 線路解析度(Resolution): (Line/Space) 2.5/2.5 ㏕
  5. 燈源冷卻(Lamp Cooing): 強制風冷(air cooling)
  6. 光偏角(Declination Angle): ≦3°
曝光系統 Exposure System
  1. 曝光面積(Exposure area): 610mm x 560mm
  2. 檯面冷卻(Exposure Cooling): 冷氣強制風冷(Cooled air cooling)
  3. 曝光檯面(Exposure Frame): 雙框(玻璃 - 玻璃 )/ 2 sets of frame (Glass - Glass)
適用基版尺寸 Suitable Panel Size
  1. 板材厚度(Thickness): 0.08~2.5 mm (含銅/with copper)
  2. 板材寬度(Width): 310~620 mm
固定方式 Attaching Method
  1. 底片真空固定吸附於玻璃檯面/Films attached on glasses by vacuum
  2. 板材套入PIN桿固定/ Board fixed by twoØ3.175 expand pins.
操作方式 Operation
  1. 工業電腦及人機界面/ Computer and HMI.
  2. 緊急停止按鈕/ Emergency button
外部供應 Utilities
  1. 15頓冷卻水塔,最小 20L/min循環水/
    15-ton Cooling tower with at least circulating flow rate of 20 L/min.

  2. 循環水管進出口管徑1.5吋的配管
    Circulating water pipe: Ø1.5吋(inch)

  3. 排水管(Drain Water (condensate water) pipe): Ø1/2吋(inch)
  4. 電源供應(power supply): minimum 25KVA
  5. 供氣壓源(Air supply): ≥6 Kg/cm2  (Ø12mm)
  6. 空間需求(Space hold):周圍至少有1300mm之空間



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CCD半自動平行光曝光機

CCD Aligning Semi-Automatic Collimated Exposure Units
TI-5055HC